La Leyenda del Constructor de Planetas - Capítulo 102

102: Capítulo 102-103: Alianza EVU 102: Capítulo 102-103: Alianza EVU —Furukawa, ¿qué está pasando?

—Todos lo miraron con confusión.

Furukawa Taizhi dijo: —Justo ahora, la Academia de Ciencias Shen Zhou anunció que han logrado un gran avance en la tecnología de producción de la fotorresistencia para Litografía Ultravioleta Extrema.

¡Van a empezar a fabricar en masa fotorresistencias de gama alta!

—¿Qué?

—Los representantes de varios grandes conglomerados se levantaron bruscamente—.

¡Esto no es ninguna broma!

—¡No estoy bromeando!

—continuó Furukawa Taizhi—.

¡Varias compañías de fotorresistencia en Shen Zhou declararon que han obtenido la licencia de la tecnología y construirán fábricas de inmediato para comenzar la producción!

Al ver su tono ansioso, que no parecía engañoso, todos se apresuraron a comprobar la información.

Pronto, vieron la noticia.

—¿Se ha confirmado que la noticia es cierta?

—Un representante del Grupo Aplicado de Tokio hizo una llamada para preguntar al presidente de su región de Shen Zhou.

—Es cierto.

Ya hemos contactado con ellos, ¡e incluso nos han hecho una demostración especial de las muestras y los datos relacionados!

—respondió el otro interlocutor.

—¿Cómo ha podido ser tan rápido?

—Los representantes de la Compañía de Fotorresistencia Sakura se miraron consternados en la sala de reuniones.

Solo había pasado un mes desde que dejaron de suministrar, ¿no?

¿Un mes, y su ventaja técnica y el monopolio de su producto habían desaparecido?

Incluso Aoki Daikichi se quedó desconcertado.

Si esto era cierto, ¿no se habrían pegado un tiro en el pie?

Acababan de salir del mercado de Shen Zhou, y ahora Shen Zhou tenía su propia fotorresistencia de gama alta.

¿No estaban simplemente regalando su cuota de mercado?

¿Existe algo tan estúpido en el mundo?

—¡Maldita sea!

—maldijo un representante de JSR—.

Es un mercado de decenas de miles de millones de dólares estadounidenses al año.

¿Entregarlo por un estúpido acuerdo?

Aoki Daikichi tampoco se atrevió a hablar a la ligera.

El poder de estas corporaciones multinacionales no era poco; solo pudo decir con culpabilidad: —Quizás ya habían logrado el avance y solo lo anuncian ahora.

—¡No!

—dijo Furukawa Taizhi con enfado—.

¡Es totalmente por culpa de su estúpido acuerdo!

—He oído que, debido a esto, Shen Zhou movilizó a expertos nacionales y unió a decenas de miles de empresas para un desarrollo conjunto, ¡por eso el progreso fue tan rápido!

En circunstancias normales, ¡les sería imposible superar la tecnología de fotorresistencia Ultravioleta Extrema tan rápidamente!

Al oír las palabras de Furukawa Taizhi, otros representantes miraron con enfado al señor Aoki.

Les había llevado décadas competir con las empresas americanas y establecer finalmente una posición de liderazgo internacional para las fotorresistencias.

¡No esperaban ser superados en un mes!

¡Todo esto fue causado por ese supuesto acuerdo de «Cooperación Integral»!

—¡Señor Aoki, necesitamos una explicación!

—dijo un representante de JSR.

—¡Nuestra pérdida ha sido causada por los directivos de Japón!

¡Deben presentar una solución!

—exclamó un representante del Grupo Aplicado de Tokio.

—¡Nuestro grupo emitirá una carta de protesta!

—dijo fríamente un representante de Fuji Photo Film; su protesta no consistía en salir a la calle, sino que era un juego político de más alto nivel.

Estos grandes capitales tenían innumerables vínculos con la administración de la Isla Sakura.

Aoki Daikichi sintió un sudor frío en la espalda; ¡sabía que su facción acababa de ofender a un gran grupo capital!

Alguien tendría que asumir la culpa para apaciguar su ira, ¡y él bien podría convertirse en el chivo expiatorio!

«¡Por qué, si solo ha pasado un mes!», gritaba Aoki Daikichi por dentro.

Si el avance se hubiera producido unos meses más tarde, Shen Zhou definitivamente habría hecho concesiones.

Pero ¿por qué tan rápido?

…

El avance en la fotorresistencia Ultravioleta Extrema significaba que se había resuelto el problema de material más crucial para las máquinas de litografía y la fabricación de chips.

Al mismo tiempo, el equipo de Lu Jianye había perfeccionado las «lentes» necesarias para la Máquina de Litografía Ultravioleta Extrema.

Antes, eran productos que ni siquiera se podían comprar con dinero; solo la Compañía Zeiss de Hans podía fabricarlas.

Ahora, Shen Zhou podía fabricarlas por su cuenta.

Otros componentes de gama alta también se estaban fabricando en paralelo.

En cuanto al diseño de chips, era relativamente más sencillo.

Shen Zhou ya era capaz de diseñar chips de alta precisión; simplemente no podía fabricarlos.

Con las pequeñas mejoras de He Xingzhou, se completó el diseño de los chips de proceso de 3 nanómetros.

Ahora, lo único que se interponía en la fabricación de la Máquina de Litografía Ultravioleta Extrema y la producción de los chips de proceso de 3 nanómetros era el último problema: la «cuchilla de luz» Ultravioleta Extrema.

He Xingzhou llegó al Instituto de Investigación Fotoeléctrica para investigar junto con el equipo dirigido por el Académico Yan Rui.

Dentro de la sala de investigación de láser, Yan Rui estaba explicando los problemas que habían encontrado: —Actualmente, nuestro método consiste en utilizar un láser para bombardear un material objetivo con un chorro de gas para generar plasma, que luego emite radiación EUV.

La radiación EUV, tras pasar por el sistema de enfoque compuesto por espejos reflectantes de película fina multicapa periódicos, incide sobre la máscara reflectante.

La onda de luz EUV emitida proyecta entonces los patrones geométricos del circuito integrado desde la máscara reflectante sobre la fotorresistencia de la oblea de silicio, formando así el patrón de fotolitografía necesario para los circuitos integrados.

—Teóricamente, no hay ningún problema con este proceso —asintió He Xingzhou, de acuerdo.

—Pero el problema radica en cómo aumentar la potencia de la fuente de luz EUV mientras se reducen las partículas, las partículas de alta velocidad y otros contaminantes en la atmósfera del plasma —dijo Yan Rui, preocupado—, de lo contrario, la fuente de luz se deteriorará rápidamente.

Además, la litografía de proyección ultravioleta extrema utiliza un sistema de máscara reflectante.

—Los defectos de nuestra máscara EUV siguen siendo de 1 defecto/cm², y el nivel de fabricación de las máquinas de inspección también necesita mejorarse aún más.

—El problema con las máquinas de inspección, creo que el equipo del Profesor Lu podrá resolverlo —dijo He Xingzhou—.

En cuanto al problema de la fuente de luz Ultravioleta Extrema, he pensado en una solución.

—¿Cuál es la solución?

—Todos los académicos y expertos lo miraron.

—¡La mejora de la potencia de la fuente de luz se puede lograr con energía eléctrica!

—dijo He Xingzhou.

—Después de que el cuerpo de plasma sea calentado por el láser de alta potencia y reflejado varias veces, se forma una fuente de luz Ultravioleta Extrema.

En este momento, si se diseña una cámara de reacción de descarga, se permitirá que el plasma se transforme aún más, emitiendo una luz Ultravioleta Extrema más brillante y pura.

Si hay espejos reflectantes multicapa adicionales, la precisión a nanoescala de la EUV mejorará aún más, ¡pudiendo cumplir los requisitos para el proceso de 3 nanómetros!

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